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商品案内
※ Special Chambar以外は協力会社による作成なので多少お時間を頂く場合があります。
装置
コンポーネント・部品
| 超高真空多層膜蒸着装置 |
Si系MBE 化合物半導体用MBE 有機MBE |
| 高真空蒸着装置 |
酸化膜形成装置 レーザーアブレーション装置 マグネトロンスパッタ装置 卓上型蒸着装置 |
| エッチング装置 | イオン/ケミカルエッチング装置 |
| コーティング装置 | スパッタコーティング装置 |
| 真空加熱装置 | 加熱真空炉、乾燥炉 |
| 分析装置 |
２次イオン質量分析装置 CDV対応分析装置 昇温脱ガス分析装置 質量分析装置（Qマス、TOF） |
| R-HEED | 反射高速電子回析装置 |
| EB-GUN | 電子ビ－ム加熱蒸発源 |
| 特殊電子銃 |
静電偏向型電子銃 エレクトロンシャワー用電子銃 パルス電子銃 |
| ION GUN |
低加速イオンガン カウフマン型イオンガン |
| マグネトロンスパッタ電極 | DC、RF対応 |
| 分子線蒸発源 |
クヌードセンセル ガスセルラジカルセル クラッキングセル バルブソースセル |
| 多軸マニピュレーターとサンプルホルダー | |
| 基盤加熱、冷却機構 | 各種ヒーター選択可能 |
| ビームモニター |
ファラデーカップ方式 二次電子倍増管 |